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高純乙酸鑭 透明陶瓷燒結(jié) 光學(xué)玻璃澄清脫色專用
醋酸鑭（La (CH?COO)?）是一種重要的稀土化合物，在化工、醫(yī)藥、材料等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，具體如下： 催化劑領(lǐng)域：醋酸鑭可以用作一些有機合成反應(yīng)的催化劑，例如在酯化反應(yīng)中，能夠促進有機酸和醇之間的反應(yīng)，提高反應(yīng)速率和產(chǎn)物收率；在烯烴的聚合反應(yīng)中，也可發(fā)揮催化作用面議2026-04-07 -
醋酸鑭在防腐涂層中的核心作用
稀土轉(zhuǎn)化膜核心成膜鹽 直接在金屬表面形成致密、均勻、結(jié)合力強的鑭鹽轉(zhuǎn)化膜，替代傳統(tǒng)鉻酸鹽（無毒環(huán)保）。 涂層緩蝕劑（陽極型緩蝕劑） 抑制金屬陽極溶解，降低腐蝕電流、提高耐鹽霧性能。 涂層附著力促進劑 與金屬基底、樹脂形成化學(xué)鍵，提升涂層附著力、不易脫落、面議2026-04-07 -
高純氧化釔 超細粉末 99.99% 透明陶瓷 熒光粉 耐高溫涂層
高純氧化釔 超細粉末 99.99% 透明陶瓷 熒光粉 耐高溫涂層光學(xué)材料專用 氧化釔（Y?O?） 是一種集超高熔點、寬光譜透光性、化學(xué)惰性于一體的稀土氧化物，是制備耐高溫光學(xué)涂層的核心材料，廣泛用于紅外窗口、激光器件、航空航天與半導(dǎo)體裝備的高溫光學(xué)防護。 氧化釔耐高溫光面議2026-04-07 -
氧化釔：耐高溫、高硬度、高透光三合一
三氧化二釔價格，山東氧化釔 氧化釔 分子式:Y2O3 分子量:225.82 CAS NO.:1314-36-9 外觀性狀:白色或無色粉末,溶于無機酸,不溶于水和醇。 1、高純氧化釔用于濺射法制備薄膜，應(yīng)用于電子陶瓷、電容器和磁性材料。 2、作為半導(dǎo)體刻蝕機腔體內(nèi)壁的涂層，可減少硅片刻蝕污染并面議2026-04-07 -
高溫坩堝材料氧化釔（三氧化二釔）
氧化釔應(yīng)用 主流應(yīng)用領(lǐng)域 半導(dǎo)體制造（核心應(yīng)用） 刻蝕機腔體、靜電吸盤（ESC）：抗氟等離子腐蝕，低金屬污染，保護晶圓。 陶瓷涂層：沉積在腔體內(nèi)壁，延長壽命。 光學(xué)與激光 紅外窗口 / 整流罩：用于導(dǎo)D彈、紅外熱像儀、高溫爐觀察窗。 激光介質(zhì)：摻 Nd3?、Yb3?的 Y面議2026-04-03 -
三氯化銦水系鋅離子電池電解液添加劑
氯化銦（InCl?，常為四水合物 InCl??4H?O）是高性能電池關(guān)鍵材料，核心用于水系鋅離子電池電解液添加劑、全固態(tài)鹵化物電解質(zhì)前驅(qū)體、電極改性。 分子式: Cl3H8InO4 分子量: 293.238 CAS No: 22519-64-8 EINECS號: 233-043-0 主要電池應(yīng)用體系 1. 水系鋅離子電池（最成熟面議2026-04-03 -
高性能先進陶瓷材料氧化釔1314-36-9
氧化釔 分子式:Y2O3 分子量:225.82 CAS NO.:1314-36-9 核心性能 耐高溫：熔點約 2410~2500℃，可在 1600℃+ 長期穩(wěn)定使用。 高強度耐磨：莫氏硬度 9 級，抗彎強度 >400MPa，耐磨性遠超工具鋼。 光學(xué)優(yōu)異：透明氧化釔陶瓷透光范圍 0.23~8.0μm（紫外 — 紅外），紅外透過面議2026-04-03 -
氧化釔陶瓷 透明陶瓷材料三氧化二釔
光學(xué)性能（透明陶瓷） 透過波段：0.23~8μm（紫外 - 可見光 - 中紅外） 折射率：1.89 @ 1050nm 紅外透過率：> 80%（8~12μm 大氣窗口） 力學(xué)性能 抗彎強度：> 400MPa 斷裂韌性：良好（可通過復(fù)合增強） 耐磨性：為工具鋼的 10 倍以上 化學(xué)與電學(xué) 耐腐蝕性：極面議2026-04-03 -
高純氧化釔適用于高溫合金真空熔煉
鈦合金 / 高溫合金真空熔煉：Y?O? 坩堝 & 內(nèi)襯 材料：99.9% 高純氧化釔 產(chǎn)品：氧化釔坩堝、流槽、保護管、爐襯 工況：1600～1800℃，真空 / 惰性氣，鈦液、鎳基高溫合金 特點： 鈦是高活性金屬，會腐蝕 Al?O?、ZrO?、石墨 Y?O? 不與 Ti、Ni、Co、稀土金屬反應(yīng) 完全不面議2026-04-03 -
氧化釔用于制造高溫耐火纖維材料
1. 高溫耐火材料：氧化釔用于制造高溫爐襯、坩堝、熱電偶保護管等，具有高熔點，熱穩(wěn)定性，抗熱震性等優(yōu)異性能。氧化釔的熔點高達2410°C，適合極端高溫環(huán)境，在高溫下不易發(fā)生相變或分解，保持結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，能夠承受快速溫度變化而不開裂。 2. 陶瓷坩堝：氧化釔具有化學(xué)惰性，面議2026-04-03 -
四水合物硫高鈰CAS號10294-42-5源頭廠家
一、金屬表面處理加工廠（通用） 電鍍廠（鍍鋅 / 鋅鎳后無鉻封閉） 鋁氧化廠（無鉻封孔、鈍化） 壓鑄廠（鋁 / 鎂制品后處理） 不銹鋼拋光清洗后的環(huán)保鈍化 三、核心應(yīng)用價值（行業(yè)通用賣點） 100% 無六價鉻、無三價鉻、無毒環(huán)保 滿足 RoHS、REACH、ELV、WEEE 出口標面議2026-04-03 -
氧化釔（三氧化二釔）的應(yīng)用領(lǐng)域
鋼鐵冶金：連鑄三大件（水口、滑板）、中間包內(nèi)襯、鋼包透氣磚。 特種合金：鈦合金、高溫合金真空熔煉坩堝（無碳、無雜質(zhì)污染）。 玻璃工業(yè)：光學(xué)玻璃窯流液洞、料道、唇磚（環(huán)保無鉻）。 航空航天：發(fā)動機熱障涂層、火箭噴管、高溫爐內(nèi)襯。 電子 / 半導(dǎo)體：藍寶石長晶面議2026-04-03 -
氧化釔是高端耐火材料的 “萬能穩(wěn)定劑” 與 “高純基體材料”。
氧化釔是高端耐火材料的 “萬能穩(wěn)定劑” 與 “高純基體材料”。 作為穩(wěn)定劑：制造YSZ，解決氧化鋯相變開裂，用于連鑄、玻璃窯、熱障涂層。 作為純材：制造99.99% 高純坩堝 / 內(nèi)襯，用于鈦合金、稀土、半導(dǎo)體等極致純凈工況。 作為添加劑：升級傳統(tǒng)耐火材料的高溫性能與壽命。面議2026-04-03 -
氫氧化鋯Zr(OH)?涂覆多晶硅片
熱噴涂涂層與設(shè)備，將 Zr(OH)?制備成溶膠用于焊前預(yù)涂覆，在核電、壓力容器坡口防氧化，提升焊縫抗應(yīng)力腐蝕開裂性能。 采用粉末注射成形工藝，生產(chǎn)氧化鋯陶瓷焊接定位件，用于航空航天、汽車制造等精密焊接場景，保障焊接精度與穩(wěn)定性。 用 Zr (OH)?制備氧化鋯陶瓷焊裝銷面議2026-04-03 -
氫氧化鋯用于低模垢無鹵阻燃增強尼龍
低模垢無鹵阻燃增強尼龍= PA6/PA66 + 玻纖增強 + 無鹵磷系阻燃劑 + 氫氧化鋯 目標： UL94 V 0 無鹵阻燃 玻纖增強，高強度 注塑幾乎不積垢（低模垢） 不腐蝕模具、不腐蝕金屬端子 高耐熱、高 CTI、高穩(wěn)定性 氫氧化鋯作為核心助劑的詳細說明： 1. 堿性中和酸性小分面議2026-04-03 -
二氧化鋯325目 60-80目應(yīng)用高溫耐火坩堝
二氧化鋯，白色粉末，高熔點（2410℃），化學(xué)惰性強，常溫下穩(wěn)定；釔離子（Y3?）可用于晶格摻雜。是 YSZ 最核心的穩(wěn)定劑原料，也單獨用于熒光粉（Y?O?:Eu3?紅光）、激光晶體（YAG 基質(zhì)）、高溫耐火坩堝。 核心性能 力學(xué)：高硬度（接近剛玉）、高斷裂韌性（相變增韌）、抗彎面議2026-03-30 -
氧化鋯2000目 高頻陶瓷二氧化鋯325目
耐火材料：用于生產(chǎn)鋯磚、鋯管、坩堝等，適用于冶金、玻璃、陶瓷等高溫工業(yè) 陶瓷工業(yè)：作為陶瓷原料，提升陶瓷的耐高溫性、耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性；用于壓電陶瓷、日用陶瓷等 電子元器件：用于制造高頻陶瓷、電容器、傳感器等，利用其高電阻率和低熱膨脹系數(shù)特性 金屬冶煉：面議2026-03-30 -
連鑄耐火材料氧化釔添加
連鑄耐火材料（鋼水連鑄用） 添加 Y?O?改性鋁碳、鎂碳、鋯碳耐火材料 作用： 提高抗渣侵蝕性 增強高溫強度與抗熱震 延長水口、滑板壽命 4. 陶瓷窯具與高級耐火結(jié)構(gòu)件 Y?O?摻雜堇青石、莫來石、剛玉窯具 提高高溫穩(wěn)定性、抗蠕變、抗剝落 用于高端電子陶瓷、結(jié)構(gòu)陶瓷面議2026-03-30 -
電子級鈰銨蝕刻劑的核心優(yōu)勢
鈰銨蝕刻劑的核心優(yōu)勢 高純度（4N–5N）：無金屬雜質(zhì)，不污染面板 / 芯片 水溶性好、易配制：均勻透明、無沉淀 速率可控、重復(fù)性好：適合大批量生產(chǎn) 對光刻膠友好：兼容正膠 / 負膠（如 KLT、SU-8） 廢液易處理：Ce3?可回收再生、Cr??還原達標 CAS號: 16774-21-3 相面議2026-03-30 -
光刻掩膜版 材料 鈰銨16774-21-3
鈰銨（CAN, (NH?)?Ce (NO?)?） 是微電子與顯示產(chǎn)業(yè)中 鉻（Cr）及氧化鉻（CrO?）薄膜 的標準濕法蝕刻劑，核心用于光刻掩膜版、LCD/TFT 陣列、OLED 電極、微機電系統(tǒng)（MEMS） 的圖形化加工。 16774-21-3鈰銨工業(yè)級，電子級鈰銨，醫(yī)藥級鈰銨高含量99.999%面議2026-03-30 -
氧化釔（Y?O?）-冶金材料
氧化釔是重要的稀土冶金添加劑、變質(zhì)劑、精煉劑，主要用于特種鋼、高溫合金、鈦合金、磁性材料、稀土金屬冶煉，起到凈化、細化、改性、耐高溫、抗氧化作用。 二、在冶金中的主要作用 脫氧、脫硫、凈化鋼液 強脫氧、脫硫能力，降低鋼中夾雜物 改善鋼材塑性、韌性、疲勞性面議2026-03-30 -
鈰銨 16774-21-3現(xiàn)貨報價
在酸性條件下，Ce??將金屬 Cr 氧化為可溶性 Cr3?，自身被還原為 Ce3?： 二元掩模（Binary Mask）：芯片、面板、MEMS 的標準鉻掩模圖形化 相位偏移掩模（PSM）：半色調(diào) / 衰減型 PSM 的鉻層蝕刻 掩模返工：不合格鉻層整體去除、基板回收 reuse 科研 / 小批量：實驗室鉻掩面議2026-03-30 -
高端耐火材料氧化釔（三氧化二釔）
氧化釔本身熔點極高（約 2410℃），且化學(xué)性質(zhì)非常穩(wěn)定，是制造超高溫耐火材料的關(guān)鍵原料。 坩堝與容器： 用于熔煉高純度活性金屬（如鈦、鋯、鈾、钚）及其合金。 優(yōu)勢：Y?O? 不與這些活性金屬發(fā)生反應(yīng)（潤濕性差），也不會向熔體中引入雜質(zhì)（如碳、硅），保證了金屬的高面議2026-03-30 -
三氟化釔粉末13709-49-4
三氟化釔無水粉末13709-49-4 分子式:YF3 用途:紅外薄膜,光釬摻雜,紅外波段的優(yōu)良材料。氟化釔在半導(dǎo)體里穩(wěn)定發(fā)揮，提升器件性能。 高溫部件涂層： 高純度的氟化釔粉末熔點高（約 1377），可作為高溫防護涂層材料，用于航天器發(fā)動機噴嘴、燃燒室壁面等高溫部件，增強其面議2026-03-30 -
鈰銨應(yīng)用于顯示玻璃減反防眩光膜
Ce(NH4)2(NO3)6 鈰銨 16774-21-3 一、應(yīng)用定位 顯示玻璃：TFT-LCD 基板玻璃、蓋板玻璃、車載中控屏、AR/VR 鏡片、OLED 前蓋板 膜功能： 減反（AR）：降低反射，提高可視性 防眩光（AG）：減少鏡面反射，不刺眼 紫外屏蔽：保護背光模組、OLED 材料不被 UV 老化 提高面議2026-03-30 -
氧化鋯纖維 高頻陶瓷、研磨材料
合成原料 用于制金屬鋯和鋯化合物、制耐火磚和坩鍋、高頻陶瓷、研磨材料、陶瓷顏料和鋯酸鹽等主要用于壓電陶瓷制品、日用陶瓷、耐火材料及貴重金屬熔煉用的鋯磚、鋯管、坩堝等。也用于生產(chǎn)鋼及有色金屬、光學(xué)玻璃和二氧化鋯纖維。還用于陶瓷顏料、靜電涂料及烤漆。用于環(huán)氧面議2026-03-30 -
高溫涂層與陶瓷材料三氟化釔
? 金屬釔制備的核心原料：熔融鹽電解 YF?（常搭配 LiF 等助熔劑）是工業(yè)生產(chǎn)金屬釔的主要工藝；金屬釔用于稀土鎂 / 鋁 / 鋯合金改性，提升高溫強度、耐腐蝕性與焊接性能，應(yīng)用于航空發(fā)動機、高溫爐具部件。 ? 光學(xué)與激光材料：中紅外高透光 + 低折射率，作為紅外窗口、激面議2026-03-30 -
粉末型氯化鑭 復(fù)合除氟材料
粉末型氯化鑭（直接投加） 市售：工業(yè)級 / 試劑級 LaCl? 粉末（有效 La 含量約 45%） 用法：直接投加含氟廢水，攪拌反應(yīng)，沉淀分離 優(yōu)勢：工藝簡單、見效快；適合應(yīng)急 / 高濃度氟廢水 2. 負載型 / 復(fù)合除氟材料（吸附劑） 海藻酸鑭小球：LaCl? + 海藻酸鈉 → 滴球成型 →面議2026-03-30 -
電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料
can鈰銨在電子材料里主要干兩件事： 高純 Ce?? 前驅(qū)體：做氧化鈰基薄膜、拋光液、功能材料 選擇性氧化劑 / 蝕刻劑：用于光掩模、金屬線路、透明導(dǎo)電膜蝕刻 1. 半導(dǎo)體 & 集成電路 CMP 拋光液（化學(xué)機械拋光） 電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料，用于： 硅晶圓平坦化面議2026-03-30 -
氧化鋯有高熔點、高硬度、化學(xué)穩(wěn)定性好、離子導(dǎo)電性突出?的特點
二氧化鋯具有高熔點、高硬度、化學(xué)穩(wěn)定性好、離子導(dǎo)電性突出?的特點。 陶瓷刀具、剪刀、剃須刀?：高強度、無金屬離子釋放、食品級安全 ? ?軸承、閥門、泵零件?：耐高溫、自潤滑、抗腐蝕，適用于極端環(huán)境（如航空、化工）? ?拉絲模、噴嘴、磨球?：高密度與高硬度，顯面議2026-03-30 -
鈷鍍層 鈷鹽10026-22-9 工廠
鈷鍍層電鍍 用途：直接用于電鍍鈷單質(zhì)或鈷合金（如鈷鎳、鈷鐵、鈷鎢等），形成具有特定性能的金屬鍍層。 鈷鎳合金： 特性：結(jié)合鈷的硬度和鎳的延展性，鍍層耐蝕性優(yōu)于純鎳，常用于醫(yī)療器械、海洋工程等。 功能性鍍層拓展 納米復(fù)合鍍層：在硝酸鈷電解液中添加納米顆粒（面議2026-03-30 -
氟化鈰 光學(xué)鍍膜材料
三氟化鈰CeF3是一種無機化合物，又稱氟化鈰(III)，CAS號為7758-88-5，屬于稀土氟化物。其晶體屬六方晶系，具有寬透過波段和低聲子能量特性，可用于激光基質(zhì)材料和磁光隔離器。氟化鈰廠家、氟化鈰批發(fā)、氟化鈰氟化物 關(guān)于氟化鈰的主要介紹 英文名稱:Cerium fluoride 分子式:面議2026-03-30 -
高純度 CAN 溶液 鈰銨鉻掩模蝕刻
化學(xué)機械拋光（CMP） 納米 CeO?磨料前驅(qū)體：高純度 CAN（≥5N）經(jīng)熱解 / 水熱法制備單分散 CeO?納米磨料，用于晶圓、SiC/GaN 襯底、銅互連的全局平坦化。 性能優(yōu)勢：莫氏硬度 6.5，實現(xiàn)原子級平整度（Ra≤0.1nm）；SiC 去除速率達 1500–2000 ?/min（較 SiO?提升 3 倍），缺面議2026-03-30 -
鈰銨氧化劑can 透明導(dǎo)電膜蝕刻
鈰銨在電子材料里主要干兩件事： 高純 Ce?? 前驅(qū)體：做氧化鈰基薄膜、拋光液、功能材料 選擇性氧化劑 / 蝕刻劑：用于光掩模、金屬線路、透明導(dǎo)電膜蝕刻 1. 半導(dǎo)體 & 集成電路 CMP 拋光液（化學(xué)機械拋光） 電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料，用于： 硅晶圓平坦化 Si面議2026-03-30 -
光掩模鉻層蝕刻16774-21-3 鈰銨專供
鈰銨是鉻掩模標準蝕刻液核心成分： 選擇性好，不傷及光刻膠、玻璃 線寬精度高，用于芯片、面板掩膜版 晶圓清洗與表面處理 強氧化性，去除有機物、金屬雜質(zhì)，提高后續(xù)成膜 / 鍵合良率。 2. 顯示面板（LCD / OLED / TFT） ITO 透明導(dǎo)電膜蝕刻液 用于蝕刻 ITO、IZO 等透面議2026-03-30 -
鈰銨用于抗反射膜（AR 膜）
鈰銨（CAN）是制備氧化鈰（CeO?）抗反射膜（AR 膜）的核心高純鈰源，憑借高水溶性、易提純、成膜均勻等優(yōu)勢，廣泛用于太陽能電池、光學(xué)器件、顯示面板等領(lǐng)域，核心是通過光干涉效應(yīng)實現(xiàn)減反射與增透。水溶性極佳：易溶于水 / 醇，適配溶膠 - 凝膠、旋涂、浸涂等濕法工藝，分面議2026-03-30
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